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GK-120
GK-120
全自動曝光機
全自動設計,滿足一次可放置4個輸入料盒和4個輸出料盒;
雙工位轉盤設計,滿足曝光和對準上片同時進行
具備自適應調平功能
通過氣壓控制掩膜板與芯片的貼合壓力
自動快捷地定位芯片圓心、定位芯片切邊
機型說明
該機型可按照二極管芯片廠家需求定制,滿足4、5、6英寸Wafer的一次曝光
應用領域
晶圓片接觸式曝光
產品特點
全自動芯片曝光
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全自動曝光機
該機型可按照二極管芯片廠家需求定制,滿足4、5英寸Wafer的一、二、三次曝光
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全自動曝光機
矽電全新推出的全自動曝光機,可按照二極管芯片廠家工藝設計需求進行定制,滿足4寸、5寸晶圓在同一機臺上進行一、二、三次光刻的工藝處理需求。批量自動化設計,配備輸入、輸出料盒各四個;雙工位并行滿足曝光和對準上片同步 進行。
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